Roma, 9 maggio - Mercoledi' 23 maggio alle ore 11.00 presso il Complesso di San Michele a Ripa di Roma, il Ministero per i Beni e le Attivita' culturali, il Ministero per gli Affari Esteri - Istituto Italiano di Cultura (IIC), Sezione di Shanghai e l'Istituto Garuzzo per le Arti Visive, presenteranno la prima edizione del Premio Shanghai - Residenze artistiche per giovani artisti italiani e cinesi emergenti.
Il premio è rivolto a giovani italiani e cinesi tra i 18 e i 35 anni di età che operano nell'ambito delle arti figurative e si propone di offrire a giovani artisti italiani e cinesi reali opportunità di crescita artistica e professionale offrendo loro due mesi di residenza artistica rispettivamente in Cina ed in Italia, dove avranno modo di conoscere ed integrarsi con la cultura locale, di essere seguiti da un tutor e di realizzare ed esporre il loro lavoro.
I materiali, inviati alla Segreteria organizzativa entro il 30 giugno 2012, saranno giudicati da una Commissione Artistica composta da tre esperti designati da ciascuna
Istituzione. Per il Ministero per i Beni e le Attivita' culturali sono presenti Maddalena Ragni, Direttore Generale; Maria Grazia Bellisario, Direttore del Servizio Architettura e Arte Contemporanee con Sandra Tucci, referente per il progetto. Il bando del Premio Shanghai e' fin d'ora consultabile all'indirizzo www.premioshanghai.webnote.it e sui siti web delle Istituzioni promotrici (www.beniculturali.it, www.pabaac.beniculturali.it, www.iicshanghai.esteri.it, www.igav-art.org ).